Fumihiko Maki elegido para diseñar el primer Museo del diseño de China

Modelo del Shekou Museum. Imagen © China Merchants Property Development & Maki and Associates

El arquitecto ganador del Premio Pritzker Fumihiko Maki ha revelado los primeros diseños para el primer gran museo de diseño de China. Un proyecto en el distrito Shekou de Shenzhen por encargo del China Merchants Group (CMG) en colaboración con el londinense V & A Museum. El modelo de diseño se dio a conocer ayer en el Ministerio de Asuntos Exteriores en Londres, donde los representantes de CMG y el V & A firmaron un acuerdo de colaboración para ofrecer el museo, que se espera, pueda abrir a finales de 2016.

El diseño de Maki para el Museo Shekou cuenta con tres volúmenes en grandes voladizos, que se alzan encima de un plinto reconstruido y una escalera en la esquina del edificio que conduce al espacio público verde en el techo.

Conoce más sobre el proyecto, después del salto.

Vista vuelo de pájaro. Imagen © China Merchants Property Development & Maki and Associates

Shenzhen fue el lugar escogido para el nuevo museo de diseño en China, hogar de 6.000 empresas de diseño que emplean a más de 60.000 personas en este rubro. Además, fue galardonada con el estatus de Ciudad UNESCO del Diseño en 2008. “Como parte de nuestra reurbanización del barrio de Shekou de Shenzhen hemos querido ofrecer a los residentes locales un museo de importancia internacional que ayude a promover el desarrollo de las industrias creativas de China y un mayor progreso en el diseño en China “, dijo el Sr. Sun Chengming, Vice-Presidente de CMG.

Modelo del Shekou Museum. Imagen © China Merchants Property Development & Maki and Associates

China Merchants Property Development Co. Ltd, compañía de desarrollo de la nave insignia de CMG, actuará como líder en el desarrollo de la construcción, mientras que el V & A tendrá un papel asesor del museo ya que acogerá su propia colección. Además, el V & A tendrá una galería exclusiva dentro del museo para presentar sus propias exposiciones.